Tokyo Electron Ltd PK会在2025年1月29日公布下一份财报。

电子束曝光系统（Electron Beam Lithography, EBL）作为一种高精度、高分辨率的图案转移技术，具有在极细微结构和复杂图案制造中的显著优势。广泛应用于半导体制造、纳米技术和微机电系统（MEMS）的制作中，具有极高的分辨率和灵活性 ...

Tokyo Electron面向中国的营收比率在2024年4～6月的峰值时曾达到5成。由于中国经济放缓，和中国制造商的提前投资等告一段落，2025财年这一比率可能降至3成左右。该公司希望将AI营收比率提高至4成，来抵消中国影响…… ...

华南理工大学和广东众拓光电科技有限公司报告了在蓝光二极管（LED）中使用分级氮化铟镓（InGaN）量子势垒（QBs）来提高硅（Si）上生长的器件的调制频率性能，以期将其应用于可见光通信（VLC）系统 [Lei Lei et al, IEEE ...

Abstract：Tailored light–matter interactions in the strong coupling regime enable the manipulation and control of quantum ...

2024年11月30日 新闻网 浏览次数：4116 哈尔滨工业大学全媒体中心编审 技术支持：哈尔滨工业大学网络安全和信息化办公室 ...