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纳米压印光刻技术旨在挑战EUV
9 月, 佳能 推出了这项技术的第一个商业版本,有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片的制造。它被称为纳米压印光刻 (NIL),能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化,使逻辑芯片能够与目前正在量产的 Intel、AMD 和 Nvidia 处理器相媲美。
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